06. Принцип лазерной очистки анилоксов
Сам процесс лазерной очистки известен давно. Мы подобрали режимы и способы безопасного удаления краски с микрорельефной поверхности вала. Известно, что керамический слой, нанесённый на анилоксовый вал, имеет высокие температуры фазовых переходов: плавления (2435 °C), испарения (4000 °C). В нашей технологии используются сравнительно невысокие плотности мощности лазерного излучения (нагрев до температур много ниже фазовых переходов), что является гарантом безопасной очистки.
Удаление происходит за счёт термомеханического эффекта, заключающегося в образовании ударной волны, нарушающей адгезию органических и полимерных загрязнений к керамической поверхности анилокса.
Высокая эффективность определяется тем, что лазерный луч, сфокусированный в пятно размером около 100 мкм, полностью прогревает слой загрязнителя, вследствие чего из ячейки удаляется весь объём засохшей краски.
Ни один из современных способов глубокой очистки не может «достать» до дна узкой и глубокой ячейки высоколиниатурного растрированного вала:
- кавитационный процесс, происходящий в ультразвуковой ванне, нельзя контролировать; это значит, что нет гарантии того, что будет восстановлен изначальный краскоперенос анилокса;
- при очистке высоколиниатурных валов струйными методами нет гарантии, что при соударении с поверхностью вала гранулы будут разбиваться на более мелкие и произойдёт глубокая очистка;
- оба метода требуют небольших, но постоянных затрат на расходные материалы.